





半导体污水分为三大类:含氟废水、有机废水和金属离子废水。
为了除去污水中cod、氨氮、总氮等有机污染物,一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。
金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法,常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。
对于含氟废水,主要是往污水中加入钙盐,钙盐可以跟水中氟离子形成caf2,再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子,这就是常说的化学沉降法。
因电子半导体行业的用水率高,所以为了降低用水成本、减少对环境的污染,污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。
半导体污水除了除了以上方法以外,还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等,废水处理设备厂家,在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

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当曝气时间长或曝气量太大时,曝气池---发生高硝化作用,使混合物中的硝1酸盐浓度更高。 此时,由于反硝化作用,沉淀池中可能产生大量的n 2或nh 3,污泥漂浮。 此外,曝气分布是否平衡和稳定也是影响处理效果和能耗的重要因素。 当曝气系统运行时,曝气的分布将因各种干扰而变化。 例如,如果局部曝气头被堵塞,气流将减少,同时流量将在其他地方增加。 相反,如果曝气头损坏,气流将增加,其他地方的交通将急剧下降。 这些将使生物反应失衡,治1疗将下降。
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