




半导体污水分为三大类:含氟废水、有机废水和金属离子废水。
为了除去污水中cod、氨氮、总氮等有机污染物,一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。
金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法,常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。
对于含氟废水,主要是往污水中加入钙盐,钙盐可以跟水中氟离子形成caf2,再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子,这就是常说的化学沉降法。
因电子半导体行业的用水率高,所以为了降低用水成本、减少对环境的污染,污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。
半导体污水除了除了以上方法以外,还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等,在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

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当农村污水处理设备投入运行时,操作人员须负责,化工污水处理,认真操作,注意细节,设备问题或水质不符合标准,设备需立即停止应急处理。 应经常校准和清洁各种仪器和探头。 应根据工艺要求完全制备待制备药1物的浓度。 禁止增加注意力以节省麻烦。
化工废水处理设备中有机污染物和氨氮的去除主要取决于设备中的ao生物处理过程。 工作原理在a1级。由于污水中有机物浓度高,微生物处于缺氧状态。 此时,微生物是兼性微生物。 因此,a1级池不仅具有一定的有机物去除功能,而且还降低了后续好氧池的有机负荷。 有机物浓度降低,但仍存在一定量的有机物和较高的nh3-n。 为了进一步氧化和分解有机物质,同时硝化作用可以在碳化下顺利进行,并且具有较低有机负荷的好氧生物接触氧化槽设置在o阶段。 o级池中主要有好氧微生物和自氧化---(硝化---)。 其中,好氧微生物将有机物分解为co2和h2o。
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